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等离子清洗设备类产品

IoN Wave 10 微波等离子去胶机


IoN Wave 10 微波等离子去胶机是我们普及的性能全面的,设计用于实验室和科研目的的等离子体表面处理系统。

 

微波等离子表面处理系统是下列用途的理想工具: 

等离子体表面改性

有机物表面等离子体清洁

邦定强度增强

等离子体刻蚀应用

等离子体灰化应用

增强或减弱浸润性

其它等离子体系统应用
该桌上型系统除真空泵外,全部可内置于一个柜子内。如此专业和高性价比的等离子表面处理系统在此前绝无仅有!


 

详细资料

技术参数
控制器选项:基于Windows®操作系统的触摸屏界面提供全自动的控制。
多工步菜单,实时图形显示,多级别密码进入,数据记录以及所有等离子体参数的实时SPC(统计过程控制)监控。
处理室:石英,可选装节流阀。
微波功率
显示:彩色触摸屏,自动工艺菜单或手动等离子体处理。
两种用户指定气体,标配500毫升量流量计,可选第三和/或第四气体通道。
功率需求:220伏,单相,50Hz,最大10安培。
CE认证

安全和防护
电子和软件连锁
    · 微波
    · 压力
    · 处理室门开/关
反应中心前后以及挂壁盒上的急停按钮
密码保护的手动和编辑模式
声音报警
对于关键工艺参数的软件报警极限
超温报警传感器(发生器)
射频继电器与处理室门的硬件连锁
扩展24VAC控制回路的外部连锁连接