IoN Wave 10 微波等离子去胶机

IoN Wave 10 微波等离子去胶机是我们普及的性能全面的，设计用于实验室和科研目的的等离子体表面处理系统。

微波等离子表面处理系统是下列用途的理想工具： 

● 等离子体表面改性

● 有机物表面等离子体清洁

● 邦定强度增强

● 等离子体刻蚀应用

● 等离子体灰化应用

● 增强或减弱浸润性

● 其它等离子体系统应用
该桌上型系统除真空泵外，全部可内置于一个柜子内。如此专业和高性价比的等离子表面处理系统在此前绝无仅有！

详细资料

技术参数
● 控制器选项：基于Windows®操作系统的触摸屏界面提供全自动的控制。
● 多工步菜单，实时图形显示，多级别密码进入，数据记录以及所有等离子体参数的实时SPC（统计过程控制）监控。
● 处理室：石英，可选装节流阀。
● 微波功率
● 显示：彩色触摸屏，自动工艺菜单或手动等离子体处理。
● 两种用户指定气体，标配500毫升量流量计，可选第三和/或第四气体通道。
● 功率需求：220伏，单相，50Hz，最大10安培。
● CE认证

安全和防护
● 电子和软件连锁
    · 微波
    · 压力
    · 处理室门开/关
● 反应中心前后以及挂壁盒上的急停按钮
● 密码保护的手动和编辑模式
● 声音报警
● 对于关键工艺参数的软件报警极限
● 超温报警传感器（发生器）
● 射频继电器与处理室门的硬件连锁
● 扩展24VAC控制回路的外部连锁连接